集成 XRD 功能的賽默飛ARL 9900 X射線熒光光譜儀（納米到微米膜層特征分析）是一款高效的多功能 X 射線分析系統(tǒng)，兼具 XRF 和 XRD 技術，用于過程控制。ARL 9900 能夠滿足金屬工業(yè)高的化學分析精確度與可靠性需求、水泥工業(yè)過程相關的高分析需求，以及銅業(yè)和礦業(yè)的高質(zhì)量控制需求。

賽默飛ARL 9900 X射線熒光光譜儀技術參數(shù)：

真空環(huán)境分析固體樣品

元素覆蓋元素 Be-U(安裝相應的晶體)

光管功率：1.2kW、2.5kW、3.6kW或4.2kW

進樣系統(tǒng)：8位或12位或98位

重量：約750kg

功率消耗4.8kVA

主要特點：

1、 能匹配自動化系統(tǒng)，實現(xiàn)進樣、測試和結(jié)果發(fā)送的全自動化。

2、 有XRD通道，能夠同時獲得元素組成和晶體結(jié)構的信息，如水泥生產(chǎn)過程中的游離CaO、C3S、C2S等，燒結(jié)礦中的氧化亞鐵等。

3、 可以安裝多達32個固定道，同時分析多個元素，提高測試效率。

4、 采用上照式的結(jié)構設計，測試結(jié)果更加穩(wěn)定。

5、 可根據(jù)應用需求，選擇高壓發(fā)生器功率：1.2kW、3.6kW或4.2kW。

6、 光譜室真空恒溫控制，晶體有獨立的溫控系統(tǒng)，確保分析的穩(wěn)定性和可靠性。

7、 莫爾條紋無齒輪測角儀，定位準確，轉(zhuǎn)動速度快。